01
Suministro de energía para recubrimiento electroforético
Alimentación de corriente continua regulada para líneas de recubrimiento electroforético por pasos, intermitentes y continuos.
- Opciones de tecnología SCR, IGBT y SiC
- Regulación de voltaje y corriente con arranque suave
- Interfaces opcionales HMI remotas y de seguimiento de línea
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Suministro de energía para tratamiento de agua por electrocoagulación
Plataforma de energía de pulso de alta frecuencia para procesos de tratamiento de agua electrocoagulantes configurables.
- Ajuste de frecuencia de pulso de 100 Hz–100 kHz
- Inversión automática de polaridad
- Integración PLC / SCADA y operación remota
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Fuente de Alimentación para Recubrimiento al Vacío
Energía de proceso de alta frecuencia para sistemas ópticos, semiconductores, herramientas, vidrio y recubrimientos decorativos.
- Topología de conmutación de alta frecuencia
- Control de supresión de arco
- Almacenamiento de recetas y opciones de diagnóstico remoto
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Fuente de alimentación para calentamiento de procesos de semiconductores
Potencia de calefacción controlada para procesos de crecimiento de cristales, epitaxia, fotovoltaicos, cristales ópticos y materiales avanzados.
- Opciones de tecnología IGBT, MOSFET y SiC
- Control mediante PLC y pantalla táctil
- Protección contra sobrecorriente, sobretensión, cortocircuito y sobretemperatura
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Suministro de energía para galvanoplastia
Potencia de CC y pulsada configurable para procesos de acabado de metales, electrónica, baterías, semiconductores y protección contra corrosión.
- Opciones de tecnología SCR, IGBT y SiC
- Voltaje, corriente y ancho de pulso ajustables
- Monitoreo remoto de voltaje, corriente y temperatura
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Fuente de Alimentación por Electrolisis de Metal
Alimentación de CC de alta corriente para la electrólisis de metales no ferrosos, refinación y producción de láminas.
- Opciones de rectificación SCR o IGBT
- Salida de alta corriente configurada por el proyecto
- Disposiciones de enfriamiento por aire o agua
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Fuente de alimentación de gas-electrólisis
Energía regulada con precisión para procesos de electrólisis de cloro, flúor, dióxido de carbono, amoníaco y gas de síntesis.
- Regulación de voltaje ≤±0.5%; regulación de corriente ≤±0.3%
- Arranque suave con ajuste de 0 a 180 s
- Control remoto PLC y comunicación multiprotocolo
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Fuente de alimentación para fundición de tierras raras
Potencia de CC controlada para la fundición de aleaciones de tierras raras, separación y procesos de extracción de alta pureza.
- Salida del horno en frío 40–60 V
- Salida de horno caliente 8–12 V
- PLC, pantalla táctil y enfriamiento por agua opcional
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Fuente de alimentación de rectificador cloro-alcali
Rectificación de procesos para electrólisis cloro-álcali de membrana y sistemas relacionados de producción química.
- Opción de rectificación de alta frecuencia
- Sistema de enfriamiento por agua opcional
- Paquete opcional de rectificador-transformador
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Fuente de alimentación con calefacción de grafito
Potencia de calefacción controlada para reactores de grafito, hornos, procesos de fibra de carbono y grafito de alta pureza.
- Desviación del control de voltaje ≤±0.5%
- Desviación límite de corriente ≤±1%
- Interfaz RS485 y ajuste remoto de parámetros
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