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Alimentation pour revêtement électrophorétique
Alimentation CC régulée pour les lignes de revêtement électrophorétique par étape, intermittente et continue.
- Options technologiques SCR, IGBT et SiC
- Régulation de la tension et du courant avec démarrage progressif
- Interfaces HMI à distance et de suivi de ligne optionnelles
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Alimentation pour traitement de l'eau par électrocoagulation
Plateforme d'alimentation par impulsions haute fréquence pour les processus de traitement de l'eau par électrocoagulation configurable.
- Réglage de la fréquence d'impulsion de 100 Hz à 100 kHz
- Inversion automatique de polarité
- Intégration PLC / SCADA et exploitation à distance
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Alimentation pour revêtement sous vide
Alimentation de processus haute fréquence pour les systèmes optiques, semi-conducteurs, outils, verre et revêtements décoratifs.
- Topologie de commutation haute fréquence
- Contrôle de suppression d'arc
- Stockage de recettes et options de diagnostic à distance
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Alimentation pour chauffage de procédé de semi-conducteurs
Puissance de chauffage contrôlée pour la croissance cristalline, l'épitaxie, les processus photovoltaïques, les cristaux optiques et les matériaux avancés.
- Options technologiques IGBT, MOSFET et SiC
- Contrôle PLC et écran tactile
- Protection contre les surintensités, surtensions, courts-circuits et surchauffe
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Alimentation pour galvanoplastie
Puissance continue et pulsée configurable pour le traitement des métaux, l'électronique, les batteries, les semi-conducteurs et la protection contre la corrosion.
- Options technologiques SCR, IGBT et SiC
- Tension, courant et largeur d'impulsion réglables
- Surveillance à distance de la tension, du courant et de la température
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Alimentation électrolytique métallique
Alimentation CC haute intensité pour l’électrolyse des métaux non-ferreux, le raffinage et la production de feuilles.
- Options de redressement SCR ou IGBT
- Sortie à fort courant configurée par le projet
- Dispositions de refroidissement par air ou par eau
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Alimentation par électrolyse de gaz
Puissance régulée de précision pour les processus d'électrolyse du chlore, du fluor, du dioxyde de carbone, de l'ammoniac et du gaz de synthèse.
- Régulation de la tension ≤±0.5% ; régulation du courant ≤±0.3%
- Réglage du démarrage progressif de 0 à 180 s
- Contrôle à distance PLC et communication multi-protocole
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Alimentation du four à métaux des terres rares
Alimentation en courant continu contrôlée pour la fusion, la séparation et l'extraction de haute pureté des alliages de terres rares.
- Sortie du four à froid 40–60 V
- Sortie du four chaud 8–12 V
- PLC, écran tactile et refroidissement par eau optionnel
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Alimentation du redresseur chlore-alcali
Redressement du processus pour l'électrolyse membrane chlor-alkali et les systèmes de production chimique associés.
- Option de redressement haute fréquence
- Système de refroidissement par eau optionnel
- Ensemble redresseur-transformateur optionnel
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Alimentation de chauffage au graphite
Puissance de chauffage contrôlée pour les réacteurs à graphite, les fours, le carbone fibre et les processus de graphite de haute pureté.
- Écart de contrôle de tension ≤±0.5%
- Déviation de limitation du courant ≤±1%
- Interface RS485 et réglage à distance des paramètres
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